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等離子去膠機(jī)的核心原理是利用高頻電磁場(chǎng)激發(fā)氣體分子，形成由離子、電子和活性自由基組成的等離子體。這種等離子體具有雙重作用：一是物理轟擊，高速離子撞擊膠層表面，使...
[查看詳情]技術(shù)文章| Technical articles
在精密制造與科研領(lǐng)域，表面處理工藝的精度與環(huán)保性直接影響產(chǎn)品質(zhì)量與生產(chǎn)效率。臺(tái)式真空等離子清洗機(jī)憑借其技術(shù)優(yōu)勢(shì)，成為眾多行業(yè)不可少的工具。本文將從設(shè)備優(yōu)勢(shì)與使用要點(diǎn)兩方面展開(kāi)，為用戶提供全面指導(dǎo)。一、核心優(yōu)勢(shì)：多維度突破傳統(tǒng)清洗局限納米級(jí)清潔能力該設(shè)備通過(guò)高頻電場(chǎng)激發(fā)氣體形成等離子體，其活性粒子可深入材料表面微孔與凹陷區(qū)域，精準(zhǔn)剝離分子級(jí)污染物(如油脂、氧化物)，清潔精度達(dá)0.1納米。相較于傳統(tǒng)超聲波清洗的微米級(jí)效果，等離子清洗為后續(xù)粘接、涂層等工藝提供了潔凈的表面基礎(chǔ)。例如...
[查看詳情]應(yīng)用案例
等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性；
圖為PLUTO-M對(duì)線路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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